Исследованы технологические процессы прецизионной обработки поверхности подложек из монокристаллов синтетического алмаза оптоэлектронного назначения. Установлено, что примесь никеля оказывает существенное влияние на качество механической шлифовки поверхности алмаза. Показано, что комплексный подход, основанный на отборе кристаллов по содержанию примеси никеля, проведении предварительного вакуумного отжига, механической шлифовки и финишной полировки с использованием в качестве полировальной суспензии смеси субмикронных алмазных порошков и модифицированных наноалмазов детонационного синтеза позволяет получать атомно-гладкие поверхности НРНТ алмазных подложек с шероховатостью Ra ? 0,4 нм.