Двумерные (2D) структуры атомарной толщины привлекают повышенное внимание благодаря своим уникальным физическим и химическим свойствам и рассматриваются в качестве основы полупроводниковых материалов для
наноустройств нового поколения [1]. В последние годы существенно возросло количество теоретических и экспериментальных исследований таких материалов как графена,
h-BN, фосфорена, дихалькогенидов переходных металлов.
По сравнению с прочной ковалентной связью между слоями
в традиционных полупроводниках, в 2D-материалах отдельные слои атомарной или молекулярной толщины связаны
между собой слабыми силами Ван-дер-Ваальса, которые
способствуют существованию стабильной многослойности в
них.