Источник питания для исследования процессов комплексного электрохимического и электролитно-плазменного воздействия в управляемых импульсных униполярных режимах милисекундной длительности - «Национальный агрегатор открытых репозиториев российских университетов» (НОРА)

Материалов:
1 005 012

Репозиториев:
30

Авторов:
761 409

расширенный поиск

Источник питания для исследования процессов комплексного электрохимического и электролитно-плазменного воздействия в управляемых импульсных униполярных режимах милисекундной длительности

Алексеев, Ю. Г., Королев, А. Ю., Паршуто, А. Э., Нисс, В. С., Сорока, Е. В.

Дата публикации: 2019

Дата публикации в реестре: 2020-02-28T10:34:37Z

Аннотация:

Исследовано влияние совместной электрохимической и электролитно-плазменной обработки на поверхность металлов при разном их соотношении.

Ключевые слова:
электрохимические процессы, электрохимическое воздействие, электролитно-плазменное воздействие, импульсные униполярные режимы, источники питания, импульсный источник питания

Тип: info:eu-repo/semantics/article

Связанные документы (рекомендация CORE)