Дата публикации: 2013
Дата публикации в реестре: 2020-03-31T23:20:28Z
Аннотация:Лаб. практикум [для студентов напр. подг. 210100.68 «Электроника и наноэлектроника» и 211000.68 «Конструирование и технология электронных средств»] .
Доступ к полному тексту открыт из сети СФУ, вне сети доступ возможен для читателей Научной библиотеки СФУ или за плату.
Рассмотрены общие вопросы технологии изготовления интегральных устройств радиоэлектроники на примере интегральных микросхем (ИМС). Изложены основные технологические операции: получение и измерение параметров вакуума; процессы получения тонких пленок; фотолитографические процессы в технологии интегральных микросхем; технологии разделения пластин на кристаллы и создания соединений ИМС. Большое внимание уделено формированию тонкопленочных элементов, разработке топологии, оформлению конструкторско-технологической документации по изготовлению гибридноинтегральных микросхем. Представленный материал может быть использован для проведения лабораторных и практических занятий, а также в самостоятельной работе студентов для курсового проектирования по дисциплинам «Проектирование и технология электронной компонентной базы», «Интегральные устройства радиоэлектроники», «Технология микросхем и микро- процессоров», «Проектирование элементов микросхем», «Проектирование интегральных микросхем и микропроцессоров». Предназначен по кодификатору ГОС ВПО-2 для направлений подготовки бакалавров, специалистов и магистров 210200 «Проектирование и технология электронных средств» и 210100 «Электроника и микроэлектроника; по кодификатору ФГОС ВПО-3 для направлений подготовки бакалавров 210100 «Электроника и наноэлектроника» и 211000 «Конструирование и технология электронных средств». Рекомендуется для всех специальностей и направлений укрупненных групп 210000 «Электронная техника, радиотехника и связь» и 200000 «Приборостроение и оптотехника».
Тип: Book