Параметрические колебания теплового поля при взрывной кристаллизации аморфных пленок

Шабловский, О. Н.; Кроль, Д. Г.; Концевой, И. А.; Shablovski, O. N.; Krol,  D.  G.; Kontsevoi, I. A.

Изучены тепловые процессы, происходящие при взрывной кристаллизации аморфных пленок, напыленных на подложку. Представлены результаты численного моделирования параметрических колебаний теплового поля в системе «фазовая граница – подложка». Рассмотрены стационарный и волновой режимы возбуждения горячих центров кристаллизации в аморфной фазе. Расчеты выполнены для аморфной пленки германия. Установлены основные физические факторы, определяющие амплитудно-частотные свойства данного процесса: толщина пленки, температура подложки и скорость фазовой границы кристаллизации. Указаны примеры возникновения резонансных ситуаций. Рассмотрены колебания параметрической системы, которая испытывает внешнее воздействие в режиме биений. Для этой системы по-строен трехмерный фазовый портрет, демонстрирующий ее динамические свойства. При наличии спектра частот структура фазовых траекторий в основном аналогична варианту колебаний на одной частоте.

Параметрические колебания теплового поля при взрывной кристаллизации аморфных пленок

Связанные документы (рекомендация CORE)

Новости проекта

Новости

Партнеры

Индексация