Низкотемпературная  плазма магнетронного разряда

Невлюдов, И. Ш.; Гурин, Д. В.; Гурин, В. Н.; Хрусталев, К. Л.; Nevliudov, I. Sh.; Gurin, D. V.; Gurin, V. N.; Khrustalev, K. L.

В статье исследуется низкотемпературная плазма магнетронного разряда устройства, используемого для синтеза диэлектрических пленок реактивным катодным распылением [1]. Целью исследования является определение температурных характеристик частиц плазмы и распыленного вещества, а также механизма образования химической связи между распыленными атомами и молекулами активного газа. Исследование состава и энергетических параметров плазмы, а также химический состав полученных при распылении частиц вещества, проведен спектроскопическим методом. Количественный состав определялся масс-спектрометром для определения состава распыленных частиц. The article investigates a low-temperature plasma of the magnetron discharge of a device used for the synthesis of dielectric films by reactive cathode sputtering. The aim of the study is to determine the temperature characteristics of plasma particles and a sputtered substance, as well as the mechanism for the formation of a chemical bond between sputtered atoms and active gas molecules. A study of the composition and energy parameters of the plasma, as well as the chemical composition of the particles obtained by sputtering, was carried out by a spectroscopic method. The quantitative composition was determined by a mass spectrometer to determine the composition of the sputtered particles.

Низкотемпературная плазма магнетронного разряда

Связанные документы (рекомендация CORE)

Новости проекта

Новости

Партнеры

Индексация