Селективное плазмохимическое травление нитрида кремния к диоксиду кремния

Емельянов, В. В.; Бордусов, С. В.

Селективное плазмохимическое травление нитрида кремния к диоксиду кремния

Дата публикации: 2019

Дата публикации в реестре: 2021-08-05T17:48:22Z

Аннотация:

В настоящее время с развитием нанотехнологий плазмохимическое травление остается практически единственным инструментом для переноса рисунка интегральной схемы в маскирующем слое в материал подложки благодаря тому, что точность переноса рисунка соизмерима с размером ионов травящих газов. Однако требования к плазменной технологии: допустимые дефекты, селективность (избирательность к материалу), управление шириной линии, однородность травления – становятся все более жесткими и, как следствие, более сложными в реализации.

Ключевые слова:
публикации ученых, плазмохимическое травление, нитрид кремния, диоксид кремния, селективность

Тип: Статья