расширенный поиск
Дата публикации: 2020
Дата публикации в реестре: 2021-08-05T17:52:24Z
В данной работе сообщается о результатах разработки и исследования модифицированного процесса послойного химического осаждения (SILAR метод) для получения тонких пленок полупроводников SnSx, CZTS.
Тип: Статья