Получены изотермы адсорбции изопропанола и циклогексана в интервале 234?303 К на исходной поверхности оксида цинка и после ее обработки плазмой тлеющего разряда в О2 и высокочастотной плазмой в Ar. Показано, что значения изостерических теплот и энтропии адсорбции слабо зависели от указанных обработок. Установлено, что кислотность поверхности увеличилась на 38% и 97%, соответственно; кислотные центры не были центрами адсорбции обоих адсорбатов. При малой степени заполнения изотермы адсорбции (СН3)2 описывались уравнением индуцированной адсорбции, параметры которой зависели от плазмохимических обработок. Сделан вывод, что адсорбированные частицы изопропанола находились в положительно и отрицательно заряженных формах. На исходной поверхности ZnO адсорбция циклогексана описывалась уравнением Хилла?де-Бура, после плазмохимических обработок ? уравнением Ленгмюра.