В данной работе исследована взаимосвязь плотности поверхностных состояний N[ss[, заряда N[s], гистерезиса вольтфарадных характеристик (ВФХ) с химическим строением полиимидов и технологическими условиями получения пассивирующих слоев на арсениде галлия при создании фотоприемников с низкой скоростью поверхностной рекомбинации зарядов и М ДП-транзисторов.