Разработан метод управления плотностью мощности лазерного излучения при двухимпульсной лазерной атомно-эмиссионной спектроскопии металлов, позволяющих проводить послойный анализ функциональных и защитных покрытий с субмикронным разрешением слоя. Данный метод основывается на расфокусировке лазерного луча относительно поверхности образца, при этом за счет увеличения площади лазерной абляции в плазму поступает достаточное количество атомов для того, чтобы при дополнительном возбуждении их вторым импульсом из сдвоенных аналитический сигнал значительно превышал уровень шумов.