Разрядные характеристики магнетронной распылительной системы при реактивном магнетронном распылении металлической ванадиевой мишени на постоянном и импульсном токе

Нестерчик, Р. И.; Nestsiarchyk R. I.

Разрядные характеристики магнетронной распылительной системы при реактивном магнетронном распылении металлической ванадиевой мишени на постоянном и импульсном токе

Дата публикации: 2022

Дата публикации в реестре: 2022-10-06T16:31:02Z

Аннотация:

В статье рассматривается влияние состава газовой среды на характеристики разряда магнетрона при высоковакуумном реактивном магнетронном распылении. Представленные зависимости скорости нанесения пленок оксида ванадия от процентного содержания кислорода в смеси газов аргон/кислород для различных режимов при распыление на постоянном токе и при импульсном распылении. The article considers the influence of the composition of the gaseous medium on the characteristics of the magnetron discharge during high-vacuum reactive magnetron sputtering. The presented dependences of the deposition rate of vanadium oxide films on the percentage of oxygen in the argon/oxygen gas mixture for different modes during DC and pulsed sputtering.

Ключевые слова:
материалы конференций, магнетронные распылительные системы, реактивное магнетронное распыление, импульсное питание, magnetron sputtering systems, reactive magnetron sputtering, deposition rate

Тип: Статья