Тепловая волна возбуждения горячих центров при взрывной кристаллизации аморфных пленок

Шабловский, О. Н.; Кроль, Д. Г.

Тепловая волна возбуждения горячих центров при взрывной кристаллизации аморфных пленок

Дата публикации: 2022

Дата публикации в реестре: 2023-02-06T15:22:54Z

Аннотация:

Дано на качественном уровне теплофизическое описание процесса возбуждения горячих центров кристаллизации в аморфной пленке, напыленной на подложку. Получены аналитические зависимости, определяющие пространственно-временные колебания теплового поля между слабыми и сильными разрывами, бегущими перед фронтом кристаллизации и возбуждающими горячие центры. Вычислено пороговое значение частоты возбуждающих колебаний, разделяющее устойчивый и неустойчивый режимы распространения этих подвижных границ. Обнаружен режим биения температуры вблизи границы устойчивости/неустойчивости. В результате численных расчетов определены амплитудно-частотные свойства процесса возбуждения горячих центров в аморфной пленке германия при различных температурах подложки.

Ключевые слова:
Взрывная кристаллизация, Температура подложки, Толщина пленки, Устойчивость теплового поля, Explosive crystallization, Substrate temperature, Film thickness, Thermal field stability

Тип: Article