Предложен метод вычисления профиля концентрации носителей заряда в гетероструктуре с квантовыми ямами, основанный на измерении полевой зависимости резистивных свойств гетероструктуры. Предполагается, что данный метод более информативен, чем метод емкостного профилирования, за счет как более широкого диапазона регистируемых им частот перезарядки электронных состояний в p–n-переходе, так и более высокой чувствительности резистивных свойств гетероструктуры к изменению напряжения. Получено аналитическое выражение, позволяющее вычислить профиль концентрации по резистивному методу, наглядно демонстрирующее возможность появления пиков в профиле концентрации электронов Экспериментальные исследования гетероструктур из InGaN/GaN показали работоспособность метода и его возможности в сравнении с методом емкостного профилирования.