Материалов:
1 005 012

Репозиториев:
30

Авторов:
761 409

Температурные зависимости произведения дифференциального сопротивления на площадь в МДП-структурах на основе CdxHg1–xTe, выращенного методом молекулярно-лучевой эпитаксии на альтернативных подложках из Si и GaAs

Дата публикации: 2017

Дата публикации в реестре: 2024-07-01T17:14:18Z

Аннотация:

В диапазоне температур 9–200 К экспериментально исследованы температурные зависимости дифференциального сопротивления области пространственного заряда в режиме сильной инверсии для МДП-структур на основе CdₓHg₁₋ₓTe (x = 0.22–0.40), выращенного методом молекулярно-лучевой эпитаксии. Изучено влияние на величину произведения дифференциального сопротивления на площадь различных параметров структур: состава рабочего слоя, типа подложки, типа диэлектрического покрытия, наличия приповерхностного варизонного слоя. Показано, что значения произведения RОПЗA для МДП-структур на основе n-CdHgTe, выращенного на подложке из Si(013), меньше, чем для структур на основе материала, выращенного на подложке из GaAs(013). Значения RОПЗA для МДП-структур на основе p-CdHgTe, выращенного на подложке из Si(013), сравнимы со значением аналогичного параметра для МДП-структур на основе p-CdHgTe, выращенного на подложке из GaAs(013).

Тип: статьи в журналах

Источник: Известия высших учебных заведений. Физика. 2017. Т. 60, № 2. С. 141-150


Связанные документы (рекомендация CORE)