Влияние неравномерности толщины поверхностной диэлектрической пленки на распыление катода в тлеющем разряде

Бондаренко, Геннадий Германович 1945-; Кристя, Владимир Иванович; Йе, Наинг Тун

Влияние неравномерности толщины поверхностной диэлектрической пленки на распыление катода в тлеющем разряде

Бондаренко, Геннадий Германович 1945-, Кристя, Владимир Иванович, Йе, Наинг Тун

Дата публикации: 2015

Дата публикации в реестре: 2024-07-01T17:21:29Z

Аннотация:

Установлены закономерности процесса распыления катода с тонкой диэлектрической пленкой переменной толщины в тлеющем разряде. Показано, что плотность потока распыленных с катода атомов максимальна на его участках с наименьшей толщиной пленки вследствие существования фокусировки на них ионного потока, которая обусловлена нарушением однородности электрического поля вблизи поверхности катода. В результате происходит увеличение неравномерности толщины пленки с течением времени, приводящее к образованию в ней пор.

Ключевые слова:
диэлектрические пленки, переменная толщина, тлеющие разряды, процессы распыления катода

Тип: статьи в журналах

Источник: Известия высших учебных заведений. Физика. 2015. Т. 58, № 9. С. 99-104