Формирование пленок нитрида титана методом реактивного магнетронного распыления при пониженном давлении

Достанко, А. П.; Голосов, Д. А.; Завадский, С. М.; Мельников, С. Н.; Окоджи, Д. Э.; Котинго, Д. Д.; Рубан, Г. М.

Формирование пленок нитрида титана методом реактивного магнетронного распыления при пониженном давлении

Достанко, А. П., Голосов, Д. А., Завадский, С. М., Мельников, С. Н., Окоджи, Д. Э., Котинго, Д. Д., Рубан, Г. М.

Дата публикации: 2016

Дата публикации в реестре: 2021-08-05T17:28:30Z

Аннотация:

Проведены исследования процесса реактивного магнетронного распыления титана в среде Ar/N2 рабочих газов при пониженном давлении. Установлено, что при высоковакуумном режиме работы магнетронной распылительной системы и высоких скоростях откачки в режиме стабилизации мощности разряда магнетрона напряжение разряда практически однозначно зависит от содержания реактивного газа в камере, т. е. отсутствует гистерезис характеристик, свойственный процессам реактивного распыления. При этом возможно воспроизводимое нанесение слоев нитрида титана c удельным сопротивлением менее 70 мкОм×см и твердостью свыше 28 ГПа.

Ключевые слова:
публикации ученых, реактивное магнетронное распыление, нитрид титана, микротвердость, коэффициент трения, объемный износ, reactive magnetron sputtering, titanium nitride

Тип: Article