ИССЛЕДОВАНИЕ ЭФФЕКТИВНОСТИ ИСПОЛЬЗОВАНИЯ АРХИТЕКТУР U-Net И CycleGAN В РАСЧЕТЕ ФОТОШАБЛОНА ДЛЯ ТЕХНОЛОГИИ 90-нм МЕТОДОМ ОБРАТНОЙ ЛИТОГРАФИИ

Karandashev I.M.; Teplov G.S.

ИССЛЕДОВАНИЕ ЭФФЕКТИВНОСТИ ИСПОЛЬЗОВАНИЯ АРХИТЕКТУР U-Net И CycleGAN В РАСЧЕТЕ ФОТОШАБЛОНА ДЛЯ ТЕХНОЛОГИИ 90-нм МЕТОДОМ ОБРАТНОЙ ЛИТОГРАФИИ

Дата публикации в реестре: 2024-03-01T14:43:15Z

Аннотация:

В работе выполняется сравнение результатов расчёта фотошаблона, применяемого для получения затворов транзисторов по технологии 90 нм. Расчет выполнен нейронными сетями с архитектурой U-Net и CycleGAN. В качестве набора данных для обучения использовались структуры, которые были сгенерированы с помощью моделей обратной литографии, применяемых в промышленном производстве. Архитектура CycleGAN продемонстрировала способность генерировать топологию, стилистически совпадающую с результатами применения ILT с опцией MRC.

Ключевые слова:
U-Net, CycleGAN, ML-OPC, OPC, AI EDA, U-Net, computational photolithography, вычислительная фотолитография

Тип: Article

Права: open access

Источник: Mathematical modeling in materials science of electronic component. ICM3SEC-2023