Технологические особенности формирования покрытий Ti–Cr–B–N методом магнетронного распыления на постоянном токеЛатушкина, С. Д.,
Романов, И. М.,
Лученок, А. Р.,
Посылкина, О. И.,
Харлан, Ю. А.,
Мартинкевич, Я. Ю. боросодержащего компонента диборид титана (TiB2) или
нитрид бора (BN). Установлены условия осаждения покрытий с
Особенности формирования покрытий хром–нитрид хрома в сренеуглеродистых низколегированных сталяхОсобенности формирования покрытий хром–
нитрид хрома в сренеуглеродистых низколегированных сталях
Нитрид алюминия, легированный переходными металлами, в качестве материала для спинтроникиНитрид алюминия, легированный переходными металлами, в качестве материала для спинтроники
Нитрид галлия: уровень зарядовой нейтральности и границы разделаНитрид галлия: уровень зарядовой нейтральности и границы раздела
Ферромагнитный нитрид галлия, легированный марганцем, в качестве материала для спинтроникиФерромагнитный
нитрид галлия, легированный марганцем, в качестве материала для спинтроники